banner
contact ons
Nieuwe producten
  • LED UV Curing Box
    kleine wafer stikstof UV -uithardingssysteem tape LED UV -uithardingsdoos

    Stikstof UV -uithardingssysteem LED, compact en praktisch UV -uithardingssysteem, 5 seconden voor de film om los te maken van de wafer, instelbare tijd, verstelbare verlichting, stikstofbescherming

  • UV -uithardingssysteem
    Wafer UV -uithardingssysteem LED -tape UV Curing Machine halfgeleider keramisch substraat vierkant

    Verlichting kan worden aangepast, tijd kan worden aangepast, zelfs uithardend, 5 seconden genezen,Compatibel met meerdere maten

  • Wafer-expandermachine
    6 inch 8 inch halfautomatische LED Wafer Expander Machine

    Uitgerust met stikstofsteunstaaf, arbeidsbesparende clamshell-functie; Pas de hoogte van de werkplaat aan om te stijgen, u kunt de afstand tussen de MATRIJS aanpassen; Gebruik het optillen van de motor en het optillen van de cilinder om het membraanexpansieproces te voltooien, om de consistentie van de membraanexpansie te garanderen;

  • Halfautomatische Wafer Mounter-machine
    12 inch halfautomatische Wafer Mounter filmplakmachine

    Deze apparatuur (lamator) wordt voornamelijk gebruikt voor 12 inch Si wafer BG-filmcoating. Geen bramen, geen luchtbellen. Het wafeltjetype is een dummywafel. Deze halfautomatische filmplakmachine is geschikt voor het aanbrengen van film op producten als wafers, halfgeleiders, keramiek en glas. Het is een apparaat dat wordt gebruikt voor de verwerking van filmcoatings en dat speciaal is ontworpen om dunne filmmaterialen nauwkeurig op het oppervlak van wafers te hechten. Het combineert de kenmerken van handmatige bediening en automatische besturing, waardoor een hogere nauwkeurigheid en efficiëntie bij het aanbrengen van de film ontstaat, terwijl het bedieningsgemak behouden blijft.

  • Handmatige wafelscheurmachine
    Handmatige Wafer Film Separator Siliciumstripmachine

    Deze filmscheurmachine wordt gebruikt om de beschermende tape op het oppervlak van wafers te verwijderen na verdunnings- of etsprocessen. Het apparaat kan worden gebruikt voor het scheuren van films op 4", 5", 6", 8" en 12" wafers.

De noodzaak om stikstof toe te voegen aan het UV-uithardingssysteem

2025-10-14 11:18:27

Het verschil tussen UV LED-uithardingssystemen met en zonder stikstoftoevoeging is aanzienlijk. Of stikstof nodig is, hangt volledig af van uw procesvereisten.


Hieronder vindt u een gedetailleerde uitleg over de verschillen, voordelen, nadelen en hoe u kunt bepalen of stikstof nodig is.

Kernverschil: met stikstof versus zonder stikstof

Het fundamentele verschil ligt in de zuurstofconcentratie in de werkomgeving:

Zonder stikstof: Het proces vindt plaats in normale lucht, met een zuurstofconcentratie van ongeveer 21%.

Met stikstof: Er wordt stikstof van hoge zuiverheid in de proceskamer gevuld om de zuurstofconcentratie te verlagen tot een extreem laag niveau (meestal lager dan 100 ppm, of zelfs zo laag als 10 ppm).


Dit verschil in zuurstofconcentratie leidt direct tot variaties in verschillende belangrijke aspecten, zoals hieronder beschreven.


Gedetailleerde vergelijking van Diffe ren ces

Vergelijkingsdimensie

Zonder stikstof (in de lucht)

Met stikstof (zuurstofarme omgeving)

1. Ontgomingsefficiëntie/snelheid

Langzaam. Zuurstof "dooft" de vrije radicalen die door UV-licht worden gegenereerd, waardoor ze in reacties met colloïdemoleculen concurreren en het ontgommingsproces ernstig wordt belemmerd.


Aanzienlijk sneller. De remmende werking van zuurstof wordt geëlimineerd, waardoor UV-energie volledig kan worden benut om de chemische bindingen van colloïdemoleculen te verbreken. De efficiëntie kan met een factor tien worden verhoogd.


2. Ontgommingseffect/volledigheid


Mogelijk onvolledig. Colloïderesten blijven waarschijnlijk achter op het waferoppervlak of in diepe gaten, vooral bij structuren met grote oppervlakken of hoge aspectverhoudingen.

Grondiger en gelijkmatiger. Verwijdert effectief moeilijk te reinigen colloïderesten, wat zorgt voor een schoon en consistent waferoppervlak en een verbeterde productopbrengst.

3. Procestemperatuur


Relatief hoog. Om een bepaalde ontgommingssnelheid te bereiken, moet de werktemperatuur van het substraat meestal worden verhoogd (bijv. boven 250 °C).

Kan aanzienlijk worden verminderd. Efficiënt ontgommen kan zelfs bij lagere temperaturen (bijv. 100°C - 150°C) worden bereikt, waardoor het een laagtemperatuurproces is.

4. Schade aan apparaten


Mogelijke aanzienlijke schade. Hogere procestemperaturen kunnen thermische schade veroorzaken aan temperatuurgevoelige apparaten, voorgevormde ondiepe verbindingen, metallisatielagen, enz.

Minimale schade. Het lagetemperatuurproces maakt het ideaal voor geavanceerde productieprocessen en temperatuurgevoelige apparaten (bijv. FinFET's, 3D NAND).


5. Oppervlakteconditie


Kan lichte oxidatie van metaallagen of veranderingen in de oppervlaktetoestand veroorzaken als gevolg van hoge temperaturen en de aanwezigheid van zuurstof.

Creëert een inerte omgeving die de oorspronkelijke staat van het waferoppervlak beter behoudt en oxidatie voorkomt.


6. Bedrijfskosten


Laag. Geen stikstofverbruik.

Hoog. Vereist een continu verbruik van zeer zuivere stikstof, wat de bedrijfskosten verhoogt.



Is het nodig om stikstof toe te voegen? Hoe beoordeel je dat?

Of stikstoffunctionaliteit nodig is, hangt af van uw toepassingsgebied, procesknooppunt en eisen aan de productopbrengst.
Hieronder staan de situaties waarin het toevoegen van stikstof aanbevolen of optioneel is.


Wanneer het toevoegen van stikstof wordt aanbevolen

1. Geavanceerde halfgeleiderproductie

Geschikt voor procesknooppunten van 90 nm en lager.
Wordt gebruikt in temperatuurgevoelige apparaten zoals FinFET, 3D NAND en DRAM.
Noodzakelijk voor het verwijderen van fotoresist in structuren met een hoge beeldverhouding.
Zorgt voor een hoge opbrengst en stabiele procesprestaties.

2. Temperatuurgevoelige apparaten en materialen

Omvat samengestelde halfgeleiders (GaAs, GaN), flexibele elektronica en MEMS.
Ook geschikt voor wafers die volledig van metaal zijn voorzien en niet bestand zijn tegen hoge temperaturen.

3. Wetenschappelijk onderzoek en ontwikkeling

Biedt een gecontroleerde omgeving voor het verkennen van procesparameters en het verkrijgen van optimale interface-eigenschappen.


Wanneer stikstof mogelijk niet nodig is

1. Volwassen procesknooppunten

Voor processen op micronniveau of 0,35 μm en hoger, waarbij de temperatuur- en residu-eisen minder streng zijn.

2. Kostengevoelige toepassingen

Voor chips of apparaten voor consumentengebruik waarbij de hogere kosten door stikstof de hogere opbrengst niet rechtvaardigen.

3. Niet-kritische fotoresistverwijdering

Als UV-ontgommen in de lucht al aan de procesvereisten kan voldoen.


Samenvatting en aanbeveling

Door stikstof toe te voegen wordt zuurstofremming opgeheven en wordt het ontgommen bij lage temperaturen, schoon en met minimale schade, ondersteund. Het is essentieel voor geavanceerde halfgeleiderproductie en toepassingen die een hoge precisie en opbrengst vereisen.


Voor traditionele of kostengevoelige processen kan het achterwege laten van stikstof een praktische keuze zijn, maar het kan de efficiëntie, reinheid en processtabiliteit verminderen.


Nitrogen UV Curing System


onze nieuwsbrief
contacteer ons nu